On réclamait le topic, le voici créé à l'occasion de la publication (/leak ? /fake ?) de cette hypothétique roadmap du process Intel jusqu'à 2022 :
Quelqu'un pour commenter les différentes lignes et valeurs ?
4 nm... Je crois me rappeler qu'en dessous de 10-20 nm, ce serait difficile du fait des courants de fuite / épaisseur des gates...
C'est ce FinFET qui rend ça possible ?
Bon, pour ne pas pinner un 1er post de noob, j'ai tout de même fait mes devoirs :
http://en.wikipedia.org/wiki/Multigate_device
FinFET y est expliqué, et effectivement le but est de mettre plusieurs gates.
Ce qui est étrange est qu'il est indiqué qu'Intel a justement choisi de ne pas parler de FinFET pour leur techno tri-gate.
Ils ont changé ? La roadmap est un fake ?
Il y a quelques docs sur le site d'Intel :
http://www.intel.com/technology/sili...rated_cmos.htm
http://download.intel.com/technology...efing_0606.pdf
http://download.intel.com/technology..._VLSI_0606.pdf
Et ça, qui link également les pages sur InSb :
http://www.intel.com/technology/sili...htm?iid=SEARCH